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  • 阿石创:在PVD镀膜设备工艺材料端积累丰富经验:镀膜

    阿石创:在PVD镀膜设备工艺材料端积累丰富经验:镀膜

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    证券之星消息,阿石创(300706)09月26日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题镀膜。投资者提问:您好董秘镀膜,请问公司靶材业务在国内有什么优势?阿石创回复:尊敬的投资者,您好!感谢您对

    2025-11-24
  • 迈为股份获得发明专利授权:“连续PVD镀膜设备中阴极的安装系统”:镀膜

    迈为股份获得发明专利授权:“连续PVD镀膜设备中阴极的安装系统”:镀膜

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    证券之星消息,根据天眼查APP数据显示迈为股份(300751)新获得一项发明专利授权,专利名为“连续PVD镀膜设备中阴极的安装系统”,专利申请号为CN202011583814.4,授权日为2025年1

    2025-11-24
  • 捷佳伟创:近期,钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD2400V顺利出货:真空镀膜

    捷佳伟创:近期,钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD2400V顺利出货:真空镀膜

    行业动态 # PVD2400V # 空镀膜 # 利出货PVD2400V # 利出货 # 真空镀膜

    每经AI快讯真空镀膜,有投资者在投资者互动平台提问:请问贵公司钙钛矿设备的研究进展以及出货情况?下游厂家对钙钛矿设备兴趣如何,是否是正确的技术路线?捷佳伟创(300724.SZ)11月17日在投资者

    2025-11-24
  • 厦门能谷涂层取得便于调节的PVD真空镀膜工装治具专利,实现同步调节功能提高夹持工件效率:真空镀膜

    厦门能谷涂层取得便于调节的PVD真空镀膜工装治具专利,实现同步调节功能提高夹持工件效率:真空镀膜

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    金融界2025年8月26日消息,国家知识产权局信息显示,厦门能谷涂层技术有限公司取得一项名为“一种便于调节的PVD真空镀膜工装治具”的专利,授权公告号CN223268740U,申请日期为2024年08

    2025-11-24
  • 晶盛机电获得实用新型专利授权:“MOCVD镀膜设备”:镀膜

    晶盛机电获得实用新型专利授权:“MOCVD镀膜设备”:镀膜

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    证券之星消息,根据天眼查APP数据显示晶盛机电(300316)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“MOCVD镀膜设备”,专利申请号为CN202422879345.0,授权日为2025年10月10日镀

    2025-11-24
  • 谛思纳为取得一种便于加工的多层离子膜镀膜设备专利,提高镀膜效率:镀膜

    谛思纳为取得一种便于加工的多层离子膜镀膜设备专利,提高镀膜效率:镀膜

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    国家知识产权局信息显示,广东谛思纳为新材料科技有限公司取得一项名为“一种便于加工的多层离子膜镀膜设备”的专利,授权公告号CN223576585U,申请日期为2024年12月镀膜。专利摘要显示,本

    2025-11-24
  • 鼎新机械取得镜片加工真空镀膜机升降机构专利,升降架升降稳固使用安全可靠:镀膜

    鼎新机械取得镜片加工真空镀膜机升降机构专利,升降架升降稳固使用安全可靠:镀膜

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    国家知识产权局信息显示,丹阳市鼎新机械设备有限公司取得一项名为“一种镜片加工真空镀膜机的升降机构”的专利,授权公告号CN223576584U,申请日期为2024年12月镀膜。专利摘要显示,本实

    2025-11-24
  • 华升纳米:内齿圈 + 真空镀膜机构建涂层加工全流程服务:真空镀膜

    华升纳米:内齿圈 + 真空镀膜机构建涂层加工全流程服务:真空镀膜

    关于我们 # 华升纳 # 米:内 # 空镀膜 # 程服务华升纳 # 程服务 # 真空镀膜

    在精密制造领域,涂层加工技术是决定零部件性能与寿命的核心关键真空镀膜。小到汽车变速箱的内齿圈,大到半导体生产中的核心设备,高质量的涂层不仅能让内齿圈等零部件的耐磨、耐腐蚀性能实现跨越式提升,更成为企业

    2025-11-24
  • 歌尔光学申请光波导ALD镀膜表面处理相关专利,使镀膜层较厚区域研磨压力大于较薄区域:镀膜

    歌尔光学申请光波导ALD镀膜表面处理相关专利,使镀膜层较厚区域研磨压力大于较薄区域:镀膜

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    金融界2025年8月26日消息,国家知识产权局信息显示,歌尔光学科技有限公司申请一项名为“光波导ALD镀膜表面处理方法、研磨器和光波导”的专利,公开号CN120533610A,申请日期为2025年05

    2025-11-24
  • 捷佳伟创获得实用新型专利授权:“炉膛装置及RPD镀膜设备”:镀膜

    捷佳伟创获得实用新型专利授权:“炉膛装置及RPD镀膜设备”:镀膜

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    证券之星消息,根据天眼查APP数据显示捷佳伟创(300724)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“炉膛装置及RPD镀膜设备”,专利申请号为CN202422663546.7,授权日为2025年9月19

    2025-11-24
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